技术优势
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合作优势
技术优势

装备自主设计

自主设计装备腔室,实现更好的温场与流场均匀性。

无支点SiC涂层技术

核心技术优势,彻底解决涂层支撑点性能薄弱问题。

超临界多相法TaC涂层技术

可在满足技术指标的情况下相比CVD法大幅降低TaC涂层成本。

涂层性能优异

在纯度、尺寸均匀性、寿命等方面均可满足严苛的半导体制程要求。

高精度加工检测能力

采用进口高精度三坐标仪确保微米级别的尺寸精度。

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